特許

J-GLOBAL ID：200903036671309405

塗布装置

発明者： 藤本 昭浩 ,  坂本 泰大
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-259154
公開番号（公開出願番号）：特開平8-097134
出願日： 1994年09月29日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】[目的]被処理基板から飛散する処理液を回収するためのカップ内で処理液の固化または詰まりをなくし、メンテナンス性を改善する。[構成]ユニット底の中央部に環状のカップCPが配設され、その内側にスピンチャック52が配置されている。カップCPの中は、外周壁面、内周壁面および底面によって1つの室が形成されており、底面に1つまたは複数のドレイン口56が設けられている。このドレイン口56はドレイン管70を介してタンク72に接続されている。タンク72は密閉容器であり、その底面に排液口72aが設けられ、上面に排気口72bが設けられており、それぞれ配管74,76を介して排液処理部(図示せず)および排気ポンプ(図示せず)に接続されている。

請求項（抜粋）：

環状カップの内側に被処理基板を保持しながら回転するスピンチャックを設け、前記スピンチャック上の前記被処理基板の表面に所定の処理液を供給し、前記スピンチャックにより前記被処理基板を回転させて前記被処理基板の表面に前記処理液を塗布するようにした塗布装置において、前記被処理基板から飛散して前記カップの底部に集められた前記処理液を廃液として前記カップから排気ガスと一緒に排出する排出手段と、前記排出手段からの前記廃液および排気ガスを一時的に貯留する貯留手段と、前記貯留手段にて前記廃液および前記排気ガスを分離する気液分離手段と、を具備することを特徴とする塗布装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 回転式塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-350261   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• レジスト塗布方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-251205   出願人：富士通株式会社
• 特開昭59-009919