特許
J-GLOBAL ID:200903036673697828

高圧ガス供給システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 磯野 道造
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-034229
公開番号(公開出願番号):特開2006-220065
出願日: 2005年02月10日
公開日(公表日): 2006年08月24日
要約:
【課題】 重量および製造コストを低く抑えることができ、しかも減圧器の下流側のデバイスを確実に保護できる高圧ガス供給システムを提供する。【解決手段】 容器主止弁3を備えた高圧容器2と、容器主止弁3の下流側に設けられる減圧器10と、この減圧器10の下流側に設けられる遮断弁20とを備える。容器主止弁3から減圧器10までのガス流路Raの容積をV1とし、減圧器10から遮断弁20までのガス流路Rbの容積をV2としたときに、容器主止弁3と遮断弁20との間における平衡圧力が所定値以下となるように容積V1と容積V2を設定する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
容器主止弁を備えた高圧容器と、前記容器主止弁の下流側に設けられる減圧器と、この減圧器の下流側に設けられる遮断弁とを有する高圧ガス供給システムであって、 前記容器主止弁から前記減圧器までのガス流路の容積をV1とし、前記減圧器から前記遮断弁までのガス流路の容積をV2としたときに、前記容器主止弁と前記遮断弁との間での平衡圧力が所定値以下となるようにV1とV2の少なくとも一方を設定することを特徴とする高圧ガス供給システム。
IPC (3件):
F02M 21/02 ,  F17C 7/00 ,  F17C 13/04
FI (4件):
F02M21/02 X ,  F02M21/02 301A ,  F17C7/00 A ,  F17C13/04 301Z
Fターム (2件):
3E072AA01 ,  3E072DB03
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特公平7-18384号公報(第3頁、第2図)
審査官引用 (1件)

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