特許
J-GLOBAL ID：200903036676294171

電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器

発明者：
林 建二

林 建二 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-001218
公開番号（公開出願番号）：特開2004-310053
出願日： 2004年01月06日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：
【課題】 本発明は、酸素,水分等のガスや紫外線による電気光学層等の劣化を防止できるようにした電気光学装置の製造方法、及びこれにより製造された電気光学装置,電子機器を提供することを目的とする。【解決手段】 基板20上に、第1の電極23,電気光学層60,第2の電極50を順に積層してなる電気光学素子を有する電気光学装置の製造方法であって、気相成長法により、上記基板20上に、上記電気光学素子を覆うように紫外線吸収層30を形成する工程と、プラズマ雰囲気を伴う気相成長法により、上記紫外線吸収層30を覆うようにガスバリア層40を形成する工程とを備える。【選択図】 図10
請求項（抜粋）：
基板上に、少なくとも第1の電極,電気光学層,第2の電極を順に積層してなる電気光学素子を有する電気光学装置の製造方法であって、 気相成長法により、上記基板上に、上記電気光学素子を覆うように紫外線吸収層を形成する工程と、 プラズマ雰囲気を伴う気相成長法により、上記紫外線吸収層を覆うようにガスバリア層を形成する工程とを備えたことを特徴とする、電気光学装置の製造方法。
IPC (5件)：
G09F9/00 ,  G09F9/30 ,  H05B33/04 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22
FI (6件)：
G09F9/00 338 ,  G09F9/30 349Z ,  G09F9/30 365Z ,  H05B33/04 ,  H05B33/12 B ,  H05B33/22 Z
Fターム (64件)：
2H092JA24 ,  2H092JA28 ,  2H092JA34 ,  2H092JA37 ,  2H092JA41 ,  2H092KA04 ,  2H092MA07 ,  2H092MA08 ,  2H092MA14 ,  2H092MA18 ,  2H092MA22 ,  2H092MA25 ,  2H092MA27 ,  2H092NA25 ,  2H092NA29 ,  3K007AB11 ,  3K007AB12 ,  3K007AB13 ,  3K007BA06 ,  3K007BB01 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  5C094AA31 ,  5C094AA38 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA07 ,  5C094DA13 ,  5C094DB01 ,  5C094DB02 ,  5C094DB04 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EA07 ,  5C094ED20 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FB01 ,  5C094FB02 ,  5C094FB14 ,  5C094FB15 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5C094JA08 ,  5C094JA09 ,  5G435AA04 ,  5G435AA13 ,  5G435AA14 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435HH01 ,  5G435HH13 ,  5G435HH14 ,  5G435HH18 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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