特許

J-GLOBAL ID：200903036688516560

断線の修正方法

発明者： 川井 悟 ,  近藤 直人 ,  嶋田 裕行
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 有我 軍一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-031056
公開番号（公開出願番号）：特開平7-240462
出願日： 1994年03月01日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：

【要約】【目的】 製造コストを増加させることなく基板面を汚染しないようにすることができるとともに、工程を複雑化しないようにすることができ、しかも、修正後の機械的強度等の信頼性を向上させることができる。【構成】 基板上に形成した配線1の断線箇所4を埋め込むように全面に非晶質透明導電膜5を形成する工程と、次いで、該配線1の該断線箇所4に埋め込んだ該非晶質透明導電膜5部分を局所的に加熱処理して結晶化する工程と、次いで、該断線箇所4の結晶化透明導電膜8部分を除く該非晶質透明導電膜5部分をエッチング除去する工程とを含む。

請求項（抜粋）：

基板上に形成した配線(1)の断線箇所4を埋め込むように全面に非晶質透明導電膜(5)を形成する工程と、次いで、該配線(1)の該断線箇所(4)に埋め込んだ該非晶質透明導電膜(5)部分を局所的に加熱処理して結晶化する工程と、次いで、該断線箇所4の結晶化透明導電膜(8)部分を除く該非晶質透明導電膜(5)部分をエッチング除去する工程とを含むことを特徴とする断線の修正方法。

IPC (8件)：

H01L 21/768 ,  G02F 1/1343 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/268 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/82 ,  H01L 29/786

FI (5件)：

H01L 21/90 Z ,  H01L 21/306 F ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/82 R ,  H01L 29/78 311 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-250686
  
• 液晶表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-188778   出願人：ソニー株式会社
• 特開昭61-207035