特許
J-GLOBAL ID：200903036706653333

基板処理装置

発明者：
中島 考宜

中島 考宜 について

, 
松永 建久

松永 建久 について


出願人/特許権者：
株式会社日立国際電気

株式会社日立国際電気 について


代理人 (1件)： 和泉 良彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-357134
公開番号（公開出願番号）：特開2002-164400
出願日： 2000年11月24日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：
【要約】【課題】基板処理の直前に基板収納容器内の基板の各種情報の読み取りおよび書き込みを行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板を処理する反応炉1と、反応炉1内で基板を支持するボート4と、基板を収納する基板収納容器12の蓋を開閉する開閉手段7と、開閉手段7により蓋が開けられた基板収納容器12から基板を取り出し、ボート4に移載する基板移載手段9とを有する基板処理装置において、開閉手段7の基板収納容器12の載置ベース18に、基板収納容器12内の基板の情報の読み取りおよび書き込みを行う読み書き手段15を設けた。
請求項（抜粋）：
基板を処理する反応室と、前記反応室内で前記基板を支持する基板支持体と、前記基板を収納する基板収納容器の蓋を開閉する開閉手段と、前記開閉手段により前記蓋が開けられた前記基板収納容器から前記基板を取り出し、前記基板支持体に移載する基板移載手段とを有する基板処理装置において、前記開閉手段の前記基板収納容器の載置部に、前記基板収納容器内の前記基板の情報の読み取りおよび書き込みを行う読み書き手段を設けたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/22 511
FI (4件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/68 T ,  B65G 49/07 L ,  H01L 21/22 511 J
Fターム (10件)：
5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031DA09 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031FA15 ,  5F031JA49 ,  5F031MA28 ,  5F031NA10
引用特許：
審査官引用 (5件)
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