特許

J-GLOBAL ID：200903036718837731

光学素子成形型及びその製造方法

発明者： 塩川 孝紳 ,  久保田 幸雄
出願人/特許権者： ペンタックス株式会社
代理人 (1件)： 高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-322771
公開番号（公開出願番号）：特開2003-128423
出願日： 2001年10月19日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】 非球面や回折パターン等の微細で高精度な成形面を得ることができ、しかも成形時の加熱冷却の繰り返しによっても優れた耐久性を有する光学素子成形型、及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の光学素子成形型は、母材1と、接合層媒体3と、外層材2と、外層材の成形面に形成されたニッケル層4及び保護膜5とを有し、接合層媒体3は母材側で母材成分を多く、外層材側で外層材成分を多く含み、その間の成分比を段階的又は傾斜的に変化させた成分からなり、母材1と外層材2は接合層媒体3を介して焼結接合しており、外層材の成形面に形成されたニッケル層4は切削加工が施されており、ニッケル層4はさらに保護膜5が形成されていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

光学素子材料を加熱軟化させた後、一対の成形型により押圧成形して光学素子を成形する光学素子成形型において、前記成形型は母材と、接合層媒体と、外層材と、外層材の成形面に形成されたニッケル層及び保護膜とを有し、前記接合層媒体は、前記母材側で前記母材成分を多く、前記外層材側で前記外層材成分を多く含み、その間の成分比を段階的又は傾斜的に変化させた成分からなり、前記母材と前記外層材は、前記接合層媒体を介して焼結接合しており、前記外層材の成形面に形成されたニッケル層は切削加工が施されており、前記ニッケル層はさらに前記保護膜が形成されていることを特徴とする光学素子成形型。

IPC (3件)：

C03B 9/48 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/18

FI (3件)：

C03B 9/48 ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 5/18

Fターム (3件)：

2H049AA03 ,  2H049AA39 ,  2H049AA45

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ガラス光学素子の成形型
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-175049   出願人：旭光学工業株式会社