特許

J-GLOBAL ID：200903036727507698

エアロゲル膜の製造方法及び製造装置

発明者： 川上 信之 ,  福本 吉人 ,  井上 憲一 ,  鈴木 康平 ,  木下 隆 ,  上原 一浩
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-177262
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007100
出願日： 1999年06月23日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：

【要約】【課題】 超臨界乾燥を行なう基材について、基材間のばらつきが小さいエアロゲル膜を製造できる方法及び装置、特に複数枚の基材を1ロットとして、一斉に超臨界乾燥を行なう場合であっても、同じロット内の基材間のばらつきが小さいエアロゲル膜を製造する方法及び装置を提供する。【解決手段】 基材上で、金属アルコキシドのゲル化反応を行なわせて、湿潤ゲル膜付与基材を作製し、上記湿潤ゲル膜付与基材を超臨界乾燥工程に付して、前記湿潤ゲル膜をエアロゲル膜とするエアロゲル膜の製造方法において、湿潤ゲル膜付与基材における湿潤ゲル膜のゲル化度を、超臨界乾燥開始時において所定値となる様に調整して行なう。

請求項（抜粋）：

基材上で、金属アルコキシドのゲル化反応を行なわせて、湿潤ゲル膜付与基材を作製し、上記湿潤ゲル膜付与基材を超臨界乾燥工程に付して、前記湿潤ゲル膜をエアロゲル膜とするエアロゲル膜の製造方法において、湿潤ゲル膜付与基材における湿潤ゲル膜のゲル化度を、超臨界乾燥開始時において所定値となる様に調整して行なうことを特徴とするエアロゲル膜の製造方法。

Fターム (11件)：

5F058BA06 ,  5F058BC20 ,  5F058BF27 ,  5F058BF46 ,  5F058BF80 ,  5F058BG01 ,  5F058BG02 ,  5F058BG04 ,  5F058BH01 ,  5F058BH20 ,  5F058BJ02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 半導体基板上に薄膜ナノ多孔質アエロゲルを形成するための低揮発性溶剤基の方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-342342   出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
• 成膜方法及び成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-243443   出願人：株式会社神戸製鋼所
• エアロゲル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-338678   出願人：ニチアス株式会社
• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-020857   出願人：松下電器産業株式会社