特許

J-GLOBAL ID：200903036736584220

保持方法及び保持装置、パターン形成方法及びパターン形成装置、デバイス製造方法

発明者： 柴崎 祐一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-125459
公開番号（公開出願番号）：特開2007-299864
出願日： 2006年04月28日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】基板の変形を抑え、基板を所望状態で保持できる保持方法を提供する。【解決手段】保持方法は、基板の一方の面と保持部材の保持面とを近づけるように基板と保持部材とを相対的に移動して一方の面と保持面とを接触させる動作を有し、移動中の少なくとも一部の所定区間で、基板と保持部材との相対移動方向の加速度を変化させる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板を保持部材で保持する保持方法であって、 前記基板の一方の面と前記保持部材の保持面とを近づけるように前記基板と前記保持部材とを相対的に移動して前記一方の面と前記保持面とを接触させる動作を有し、 前記移動中の少なくとも一部の所定区間で、前記基板と前記保持部材との相対移動方向の加速度を変化させる保持方法。

IPC (3件)：

H01L 21/683 ,  H01L 21/027 ,  B23Q 3/08

FI (3件)：

H01L21/68 P ,  H01L21/30 515G ,  B23Q3/08 A

Fターム (21件)：

3C016CE05 ,  3C016DA01 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031HA08 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031HA58 ,  5F031JA45 ,  5F031JA51 ,  5F031MA27 ,  5F031PA30 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CC08 ,  5F046CC09 ,  5F046CC10 ,  5F046CC11 ,  5F046CC13

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板保持装置、ステージ装置及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-174934   出願人：株式会社ニコン