特許
J-GLOBAL ID：200903036748576720
金属内気相物質の分析方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
上柳 雅誉
, 宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-167035
公開番号（公開出願番号）：特開2007-333614
出願日： 2006年06月16日
公開日（公表日）： 2007年12月27日
要約：
【課題】Ta膜に大気中の水素を吸着させ、更に大気中の酸素等と反応して得られたTaOx膜を有する試料に対してSIMS分析を行い得られた結果と、HFS分析を行い得られた結果とを比較するとSIMS分析ではTaOxとTaとの界面で水素濃度ピークが見られるが、HFS分析ではTa内部で水素濃度はほぼ一定の値で分布している。分析方法により分析結果が異なり金属内気相物質の分布を分析することは困難であった。【解決手段】重水素をTa膜中に一様に分布するようイオン注入を行う。またSIMS分析を行う際に酸素を真空装置中にリークさせて水素を検出する。スパッタによりTa膜が露出すると同時に酸素雰囲気によるTa膜表面の酸化が生じるためTa膜内部からの水素ガス離脱が抑制され水素の偽ピークが消失する。更に重水素の信号強度が一定になるよう制御することでより精密な水素の定量分析が可能となる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
金属中に分布し、前記金属に起因し前記金属の能動面を覆うように形成される金属酸化膜を散逸阻止膜として前記金属外への離脱が抑制される金属内気相物質を有する試料を、前記試料の前記能動面側をスパッタしながら前記金属内気相物質に由来する2次イオンを検出することで前記試料の深さ方向の前記金属内気相物質分布を分析する2次イオン質量分析法を用いた金属内気相物質の分析方法であって、
前記試料中に前記金属内気相物質の同位体を、既知の分布をなすよう導入する工程と、
前記試料中の前記同位体を分析した分析結果が前記既知の分布と揃うよう分析条件が調整された標準分析条件を抽出する工程と、
前記標準分析条件を用いて前記試料中の前記金属内気相物質の分布を分析する工程を備えたことを特徴とする金属内気相物質の分析方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (17件)：
2G001AA05
, 2G001BA06
, 2G001BA14
, 2G001BA15
, 2G001BA30
, 2G001CA05
, 2G001GA08
, 2G001KA01
, 2G001LA20
, 2G001MA05
, 2G001NA01
, 2G001NA02
, 2G001NA03
, 2G001NA06
, 2G001NA15
, 2G001NA21
, 2G001RA08
