特許

J-GLOBAL ID：200903036754503700

リソグラフィ装置及び測定方法

発明者： モッダーマン、テオドロス、マリヌス ,  ファン アステン、ニコラース、アントニウス、アレゴンデュス、ヨハネス ,  ニーマイヤー、ゲリット、ヨハネス ,  ファン ボクスメール、ヨハン マリア
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (7件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史 ,  浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-546870
公開番号（公開出願番号）：特表2007-515806
出願日： 2004年12月22日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：

本発明の一実施例によれば、基板(たとえば基板を支持するための基板テーブルを備えたリソグラフィ装置内の基板)を露光する方法には、第1及び第2のセンサを使用して少なくとも1つの基板の一部の第1及び第2の高さ測定を実行するステップと、測値の差に基づいてオフセット誤差マップを作成し、且つ、記憶するステップと、第1のセンサを使用して高さ測定を実行することによって、前記基板(又は前記部分と類似した処理が施された他の基板)の複数の部分のハイト・マップを作成して記憶し、且つ、オフセット誤差マップによってこのハイト・マップを修正するステップと、前記基板(又は他の基板)を露光するステップが含まれている。

請求項（抜粋）：

測定方法であって、 基板の第1の部分の少なくとも1つの高さを測定するために第1のセンサを使用するステップと、 前記基板の前記第1の部分の少なくとも1つの高さを測定するために第2のセンサを使用するステップと、 前記第1のセンサを使用して測定した前記少なくとも1つの高さ、及び前記第2のセンサを使用して測定した前記少なくとも1つの高さに基づいて、前記第1のセンサのオフセット誤差の第1の特性表示を生成するステップと、 基板の第2の部分の複数の高さを測定するために前記第1のセンサを使用するステップと、 前記第1の特性表示及び基板の前記第2の部分の前記複数の高さに基づいて、基板の前記第2の部分の第2の特性表示を生成するステップとを含む方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 526A ,  G03F7/20 521

Fターム (4件)：

5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DC10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リソグラフィーシステムのフォーカス精度を向上させるための方法およびシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-125047   出願人：エイエスエムエルユーエス,インコーポレイテッド
• 面位置検出装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-320918   出願人：キヤノン株式会社
• 位置合せ方法、位置合せ装置、プロファイラ、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場、および露光装置の保守方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-164352   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭63-024116