リソグラフィーシステムのフォーカス精度を向上させるための方法およびシステム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本秀策 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-125047
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031493
出願日： 2002年04月25日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】基板の表面上に生成されたフィーチャのサイズを均一に維持するために用いることが可能な、改良されたフォーカスシステムを提供すること。【解決手段】本発明は、フォーカスシステムであって、基板の上部表面上の特定領域について、特定領域を露光領域の下に位置付ける前に適切なフォーカス距離を判定する較正センサと、適切なフォーカス距離の特定領域について、第1の測定値を生成する二次制御センサであって、特定領域が露光領域の下に位置付けられる前に、一次制御センサが第1の測定値を生成する、二次制御センサと、特定領域について、特定領域が露光領域の下に位置している間に、第2の測定値を生成する、一次制御センサと、特定領域が露光領域の下に位置している間に、第1および第2の測定値に基づいて、実際のフォーカス距離を調節するフォーカス調節器とを備える。

請求項（抜粋）：

基板の上部表面にイメージを露光する露光領域を含むリソグラフィシステムのフォーカス精度を向上させる方法であって、(a)基板の上部表面上の特定の領域について、適切なフォーカス精度を判定する工程であって、該適切なフォーカス精度は、該特定領域が該露光領域の下に位置していないときに、較正センサを用いて判定される、工程と、(b)該適切なフォーカス距離で、該特定領域について、第1の測定値を生成する工程であって、該第1の測定値は、該特定領域が該露光領域の下に位置していないときに、二次制御センサを用いて生成される、工程と、(c)該特定領域について、該第2の測定値を生成する工程であって、該第2の測定値は、該特定領域が該露光領域の下に位置している間に、一次制御センサを用いて生成される、工程と、(d)該特定領域が該露光領域の下に位置している間に、該第1および第2の測定値に基づいて、実際のフォーカス距離を調節する工程と、を包含し、該較正センサが、二次制御センサおよび一次制御センサよりも高いフォーカス精度を有する、方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G01B 21/00 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , G03F 9/02

FI (5件)：

G01B 21/00 C , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , G03F 9/02 H , H01L 21/30 526 Z

Fターム (22件)：

2F069AA02 , 2F069BB15 , 2F069GG04 , 2F069GG06 , 2F069GG07 , 2F069GG58 , 2F069HH09 , 2H097AA03 , 2H097BA01 , 2H097BA10 , 2H097CA16 , 2H097GB01 , 2H097KA03 , 2H097KA38 , 2H097LA09 , 2H097LA10 , 2H097LA11 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F046DB06 , 5F046DB10 , 5F046DB14

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭61-196532
リソグラフィック投影装置のオフアキシレベリング
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-107375 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
時間を節約する高さ測定を用いた、基板にマスク・パターンを繰り返し投影する方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平11-533271 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

前のページに戻る