特許

J-GLOBAL ID：200903036766923917

基板自動処理乾燥装置

発明者： 福原 光孝
出願人/特許権者： 株式会社カイジョー
代理人 (1件)： 羽切 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-133695
公開番号（公開出願番号）：特開平7-321085
出願日： 1994年05月24日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：

【要約】【目的】 処理に供される基板の清浄度を極めて高いものとし得ると共に、コストの低減及び処理作業の迅速化をも達成した基板自動処理乾燥装置を提供すること。【構成】 夫々フィルターを具備して清浄気体を雰囲気として供給する清浄気体供給手段61を、処理手段及び乾燥手段の各々に対応して複数設け、以て、基板の清浄度を高水準としている。また、該乾燥手段において、基板乾燥用として供給される気体を加熱手段43により加熱する以前にフィルター42を通すこととし、高価にして臭気の発生する耐熱フィルターの使用を避け、上記の効果を得ている。

請求項（抜粋）：

基板に対して処理液を用いて所要の処理を施す処理手段と、該処理液が付着した該基板を加熱気体を以て乾燥させる乾燥手段と、前記基板を前記処理手段及び乾燥手段を巡るべく搬送する搬送手段とを備え、フィルターを通じて清浄気体を雰囲気として供給する清浄気体供給手段が前記処理手段及び乾燥手段の各々に対応して複数配設されると共に、該雰囲気の排気を行う排気手段が設けられ、前記乾燥手段は、供給される気体を乾燥させるべき基板に向けて案内する案内手段と、該案内手段により形成される気体案内路中に設けられて各々気体の清浄化、加熱を行うフィルター及び加熱手段とを有し、該フィルターが該加熱手段よりも前記気体案内路の上流側に配置されていることを特徴とする基板自動処理乾燥装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 361 ,  H01L 21/304 351

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体ウエーハ洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-297367   出願人：ソニー株式会社
• 特開昭64-069015
  
• 特開昭61-027637