特許
J-GLOBAL ID：200903036778078694
有機EL装置の製造方法、有機EL装置および電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-078282
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268024
出願日： 2004年03月18日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】 正孔注入層を形成する際に、この正孔注入層に含まれる酸性物質により陽極にダメージが生じることを防止し、もって有機EL装置の信頼性を向上させることのできる有機EL装置の製造方法を提供する。【解決手段】 酸性溶液を使って正孔注入層を形成する前に、予めこの酸性溶液に対して耐食性を有する膜(陽極保護層14a)を形成して陽極12の表面を保護する。この膜パターンを形成する場合、まず、基板10A上にT字型若しくは逆テーパ状の断面形状を有するバンク層13dを形成し、その後、このバンク層13dをマスクとして前記膜を蒸着する。これにより、バンク層13dの開口部H5に露出した陽極12の表面に島状の膜パターン14aを形成することができる。また同時に、バンク層13dの上面にも膜14bが堆積されるため、これを陰極の補助電極として利用することで、電気特性の向上を図ることができる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
陽極と陰極との間に有機発光層を有してなり、前記陽極の上に酸性溶液を用いて形成された機能層を含む有機EL装置の製造方法であって、
前記陽極の形成された基板上に、前記陽極の平面領域に前記基板の表面から離れるに従って開口面積が狭くなるような形状を有する開口部を備えたバンク層を形成する工程と、
前記バンク層をマスクとして前記基板の表面に気相法により耐酸性を有する導電材料を堆積し、前記バンク層の上面と前記陽極の表面にそれぞれ前記陰極の補助電極となる導電層と前記陽極の腐食を防止するための陽極保護層とを一括して形成する工程と、
前記陽極保護層の上に、前記酸性溶液を用いて液相法により前記機能層を形成する工程とを備えたことを特徴とする、有機EL装置の製造方法。
IPC (5件)：
H05B33/10
, H05B33/12
, H05B33/14
, H05B33/22
, H05B33/26
H05B33/10
, H05B33/12 B
, H05B33/14 A
, H05B33/22 D
, H05B33/22 Z
, H05B33/26 Z
3K007AB11
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007CB04
, 3K007CC00
, 3K007DB03
, 3K007FA01
