高電力RFプラズマ処理システム

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-536972
公開番号（公開出願番号）：特表2001-512619
出願日： 1998年02月24日
公開日（公表日）： 2001年08月21日
要約：

【要約】高電力無線周波数電力を増幅する方法であって、様々な増幅器(60および86)が、任意の1つの増幅器が受ける応力を低減するために使用され得る高電力無線周波数電力増幅方法が記載される。電力リード(64および65)は、合計電位よりも低い電位で各増幅器に電力を供給するために、直列に配列され得る。次いで、出力(63)は、システムによる電力出力を組み合わせるために、並列の形態で接続され得る。様々な独自の安定化、駆動、分割、組み合わせ、および供給の構成が示されるとともに、プラズマ処理システムのための設計の使用および適合の可能性が示される。スイッチモード増幅器などを含み得るより多くの数の装置に特に適切であり得る局面などに、段状の組み合わせの局面が含まれる。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理方法であって、 a)電位を有するdc入力を供給するステップと、 b)各々が無線周波数出力を有する複数の増幅器の間で該電位を分割するステップと、 c)該増幅器の各々に、無線周波数駆動信号を供給するステップと、 d)該増幅器の該無線周波数出力を組み合わせて、少なくとも1つの高電力無線周波数出力を作り出すステップと、 e)該高電力無線周波数出力の作用によりプラズマを作り出すステップと、 f)該プラズマを用いて処理するステップと、を包含する、プラズマ処理方法。

IPC (6件)：

H05H 1/46 , H01L 21/3065 , H03F 1/02 , H03F 3/21 , H03F 3/217 , H03F 3/68

FI (6件)：

H05H 1/46 R , H03F 1/02 , H03F 3/21 , H03F 3/217 , H03F 3/68 B , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (7件)

特表平5-505974
特表平5-505974
特表平5-505974

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