特許

J-GLOBAL ID：200903036879117607

マスフローコントローラ

発明者： 須藤 良久 ,  伊藤 稔 ,  新田 慎一 ,  工藤 真之
出願人/特許権者： シーケーディ株式会社
代理人 (1件)： 富澤 孝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-340316
公開番号（公開出願番号）：特開平8-185229
出願日： 1994年12月27日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：

【要約】【目的】 計測した質量流量をフィードバックして、正確に弁体の位置を制御できると共に、完全な遮断機能を有するマスフローコントローラを提供すること。【構成】 マスフローコントローラは、内部を流体が流れる導管15の周囲に互いに独立して巻かれ、流体の温度に応じて抵抗値が変化する2つの抵抗体R1,R2に流れる電流値より、導管15を流れる流体の質量流量を計測する質量流量計部2と、流体の通路にあって弁座27との隙間を変化させることにより流量を変える比例弁機構とを有するマスフローコントローラであって、弁体17と一体に形成されるダイヤフラム24と、ダイヤフラム24に作用して弁体の位置を変化させる圧縮空気を制御する供給用電磁弁35と排気用電磁弁36と、質量流量計部2が計測した流体の質量流量に基づいて、供給用電磁弁35と排気用電磁弁36とを制御して流体の質量流量を所定値にフィードバックする制御手段32とパルス変換回路33とを有している。

請求項（抜粋）：

内部を流体が流れる導管の周囲に互いに独立して巻かれ、流体の温度に応じて抵抗値が変化する2つの抵抗体に流れる電流値より、該導管を流れる流体の質量流量を計測する質量流量計と、流体の通路にあって弁座との隙間を変化させることにより流量を変える比例弁機構とを有するマスフローコントローラにおいて、前記弁体と一体に形成されるダイヤフラムと、前記ダイヤフラムに作用して前記弁体の位置を変化させる圧縮空気を制御する制御弁と、前記質量流量計が計測した流体の質量流量に基づいて、前記制御弁を制御して流体の質量流量を所定値にフィードバックする制御手段とを有することを特徴とするマスフローコントローラ。

IPC (2件)：

G05D 7/06 ,  F16K 31/128

引用特許：

審査官引用 (2件)

• マスフローコントローラ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-260853   出願人：エム・シー・エレクトロニクス株式会社
• 特開平4-357507