特許

J-GLOBAL ID：200903036879248680

ガラス基板の洗浄方法およびその装置

発明者： 山下 雅充 ,  岩出 卓
出願人/特許権者： 東レエンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-102818
公開番号（公開出願番号）：特開2004-305908
出願日： 2003年04月07日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】ガラス基板上に付着している微細パーティクルを超臨界流体又は亜臨界流体を用いて洗浄するにあたり、流体にモディファイアを添加するとともに、ガラス基板のラックへの保持の状態を工夫し洗浄効率および洗浄の品質を上げる。【解決手段】パーティクルが付着したガラス基板に、超臨界流体又は亜臨界流体を接触させることにより、前記パーティクルをガラス基板から溶解させるガラス基板洗浄方法において、複数の板状のガラス基板をラックに保持し、流体処理室の中で少なくとも4MPa以上の超臨界状態又は亜臨界状態の二酸化炭素を板状のガラス基板の洗浄する面と平行にさらし流すことを特徴とする。また、流体にモディファイアを添加し洗浄効果をさらに上げている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

パーティクルが付着したガラス基板に、超臨界状態又は亜臨界状態の二酸化炭素を接触させることにより、前記パーティクルをガラス基板から剥離および/または溶解させるガラス基板洗浄方法において、複数の板状のガラス基板をラックに保持し、流体処理室の中で少なくとも4MPa以上の超臨界状態又は亜臨界状態の二酸化炭素を該複数の板状のガラス基板の洗浄する面と平行にさらし流すことを特徴とするガラス基板洗浄方法。

IPC (4件)：

B08B3/08 ,  H05B33/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (4件)：

B08B3/08 Z ,  H05B33/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (12件)：

3B201AA02 ,  3B201AB01 ,  3B201AB44 ,  3B201BB01 ,  3B201BB87 ,  3B201BB90 ,  3B201BB91 ,  3B201CD22 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 高圧処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-283003   出願人：大日本スクリーン製造株式会社, 株式会社神戸製鋼所