特許
J-GLOBAL ID：200903036910613901

混合ガスプラズマ制御装置およびその方法

発明者：
浜 垣 学

浜 垣 学 について

, 
原 民 夫

原 民 夫 について


出願人/特許権者：
理化学研究所

理化学研究所 について


代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-081622
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283790
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】 混合ガスプラズマ中のイオン密度比を精密に制御することができる混合ガスプラズマ制御装置およびその方法を提供する。【解決手段】 まず、コンピュータシステム1の電離断面積算出部2により、混合ガスに含まれるガス種と電子ビームの電子エネルギー値とに基づいて混合ガスに含まれるアルゴンガスおよびヘリウムガスの電離断面積を算出する。次に、ガス混合比決定部3により、電離断面積算出部2により算出されたアルゴンガスおよびヘリウムガスの電離断面積に基づいて制御目標となる混合ガスプラズマ中のイオン密度比に対応するガス混合比を決定する。そして、このようにしてガス混合比決定部3により決定されたガス混合比を流量調節器4に入力し、流量調節器4により、このガス混合比に基づいてアルゴンガスおよびヘリウムガスの流量を調節する。
請求項（抜粋）：
混合ガスを電子ビームで励起して発生させた混合ガスプラズマ中のイオン密度比を制御する混合ガスプラズマ制御装置において、前記混合ガスに含まれるガス種と前記電子ビームの電子エネルギー値とに基づいて前記混合ガスに含まれる各種類のガスの電離断面積を算出する電離断面積算出手段と、前記電離断面積算出手段により算出された各種類のガスの電離断面積に基づいて制御目標となる混合ガスプラズマ中のイオン密度比に対応するガス混合比を決定するガス混合比決定手段とを備えたことを特徴とする混合ガスプラズマ制御装置。
IPC (5件)：
H05H 1/24 ,  H01J 27/20 ,  H01J 37/08 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (5件)：
H05H 1/24 ,  H01J 27/20 ,  H01J 37/08 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
引用特許：
審査官引用 (4件)
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