特許

J-GLOBAL ID：200903036922332312

遮光層パターンの製造方法及び遮光層パターン形成物

発明者： 小林 弘典 ,  曽根原 章夫
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-112461
公開番号（公開出願番号）：特開2003-307610
出願日： 2002年04月15日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】 各種のカラーフィルタに用いられ、高感度で高精細な遮光層パターンを製造することが可能であり、短時間で遮光層パターンを製造することが可能な遮光層パターンの製造方法及びそれによる遮光層パターン形成物を提供する。【解決手段】 光触媒含有層及び基材を有する光触媒含有層側基板と、前記光触媒含有層中の光触媒の作用により、表面の特性が変化する特性変化層と基材を有するパターン形成体用基板を、光触媒含有層の表面と、特性変化層とが密着もしくは間隔を有するように配置した後、エネルギーを照射することで、光触媒含有層中の光触媒の作用により露光した部分の特性が変化し、特性変化層に親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンが形成される。そして、前記濡れ性パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、遮光層用組成物を全面に塗布し、親液性領域にのみ遮光層用組成物を付着、固着させて、遮光層パターンを形成する。

請求項（抜粋）：

光触媒を含有する光触媒含有層及び基材を有する光触媒含有層側基板を調整する光触媒含有層側基板調整工程と、前記光触媒含有層中の光触媒の作用により、表面の特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板を調整するパターン形成体用基板調整工程と、前記光触媒含有層及び前記特性変化層が接触するように配置した後、もしくは、前記光触媒含有層の光触媒の作用が、前記特性変化層の及ぶ距離を隔てて、前記光触媒含有層側基板を配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、前記特性変化層表面に親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンを形成する濡れ性パターン形成工程と、前記濡れ性パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、遮光層用組成物を全面に塗布することにより、親液性領域にのみ遮光層用組成物を付着させる遮光層用組成物塗布工程と、前記濡れ性パターンの親液性領域に付着した遮光層用組成物を固化させて遮光層パターンとする遮光層パターン形成工程とを有することを特徴とする遮光層パターンの製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/20 101 ,  G02B 5/00 ,  G02F 1/1335 500

FI (3件)：

G02B 5/20 101 ,  G02B 5/00 B ,  G02F 1/1335 500

Fターム (18件)：

2H042AA09 ,  2H042AA26 ,  2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB24 ,  2H048BB42 ,  2H091FA35 ,  2H091FB04 ,  2H091FB08 ,  2H091FB13 ,  2H091FC02 ,  2H091FC12 ,  2H091FC23 ,  2H091GA01 ,  2H091LA12 ,  2H091LA17

引用特許：

審査官引用 (4件)

• パターン形成体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-053774   出願人：大日本印刷株式会社
• レンズおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-167316   出願人：大日本印刷株式会社
• カラーフィルタおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-088647   出願人：大日本印刷株式会社
• カラーフィルタおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-231771   出願人：大日本印刷株式会社