特許
J-GLOBAL ID：200903036936132847

液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士フイルムホールディングス株式会社

富士フイルムホールディングス株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-168284
公開番号（公開出願番号）：特開2006-343492
出願日： 2005年06月08日
公開日（公表日）： 2006年12月21日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用される液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、液浸液の透過率が低下せず、レジストプロファイルが劣化しない、液浸露光に好適な保護膜形成組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)少なくとも1つのフッ素原子を有する重量平均分子量1000〜100,000のアルカリ現像液に溶解する水溶性樹脂と、(B)純水を含有することを特徴とする液浸露光用保護膜形成組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)少なくとも1つのフッ素原子を有する重量平均分子量1000〜100,000のアルカリ現像液に溶解する水溶性樹脂と、(B)純水を含有することを特徴とする液浸露光用保護膜形成組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/11 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/11 501 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (9件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025DA03
引用特許：
出願人引用 (6件)
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