特許
J-GLOBAL ID：200903036949410242

光学物品およびその製造方法

発明者：
山本 明典

山本 明典 について

, 
井原 正樹

井原 正樹 について

, 
齋藤 徹

齋藤 徹 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-278536
公開番号（公開出願番号）：特開2008-225439
出願日： 2007年10月26日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：
【課題】光学基材の形状が変わりにくく、形状および度数が維持されることができる光学物品およびその製造方法を提供すること。【解決手段】光学物品1は、光学基材10と、光学基材10の表面に設けられたコーティング層2と、を備え、TMAを用い、荷重50g、直径1mmの針入プローブ、初期温度25°C、昇温スピード10°C/minの条件で、光学基材10の熱機械分析を実施した場合において、光学基材10のTg+10°Cの測定温度における光学基材10の厚みの変形量が、初期温度における光学基材10の厚みの10%以上であり、コーティング層2は、光学基材10のTg以下の温度で硬化する材料から形成される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光学基材と、 前記光学基材の表面に設けられたコーティング層と、 を備え、 TMA(Thermomechanical Analyzer)を用い、荷重50g、直径1mmの針入プローブ、初期温度25°C、昇温スピード10°C/minの条件で、前記光学基材の熱機械分析を実施した場合において、前記光学基材のガラス転移点+10°Cの測定温度における前記光学基材の厚みの変形量が、前記初期温度における前記光学基材の厚みの10%以上であり、 前記コーティング層は、前記光学基材のガラス転移点以下の温度で硬化する材料から形成される ことを特徴とする光学物品。
IPC (4件)：
G02B 3/00 ,  G02B 1/11 ,  B32B 27/00 ,  B32B 7/02
FI (4件)：
G02B3/00 Z ,  G02B1/10 A ,  B32B27/00 A ,  B32B7/02 103
Fターム (34件)：
2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009BB00 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC33 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD03 ,  2K009DD06 ,  2K009DD08 ,  4F100AA20 ,  4F100AA21 ,  4F100AA28 ,  4F100AH06 ,  4F100AK53A ,  4F100AK54A ,  4F100AK57A ,  4F100AL01A ,  4F100AR00B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA07 ,  4F100CA06K ,  4F100CA18K ,  4F100EJ423 ,  4F100GB90 ,  4F100JA05A ,  4F100JA05B ,  4F100JB13B ,  4F100JK12B ,  4F100JL04 ,  4F100JN06B ,  4F100YY00A
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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