特許
J-GLOBAL ID:200903036979113510
二次イオン質量分析方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
篠部 正治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-412111
公開番号(公開出願番号):特開2005-172587
出願日: 2003年12月10日
公開日(公表日): 2005年06月30日
要約:
【目的】分析対象部位が試料の端部に位置するものにおいても高精度の分析が可能な方法を得る。 【構成】分析対象部位2が端部にある試料1を容器3の中に入れ、導電性樹脂5を注入、硬化させ、硬化後容器3より取出すことにより、試料1の分析対象部位2に近接する側面に分析対象部位2とほぼ同一平面を有する導電性領域を形成して測定に用いる試料とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
一次イオンを試料に照射し、試料より放出される二次イオンを質量分離して試料の構成成分の元素分析を行う二次イオン質量分析方法で、分析対象部位が試料の端部に位置する場合において、分析対象部位が位置する試料の前記端部の側面に導電性物質を密着させて分析対象部位と略同一平面を有する導電性領域を形成し、導電性物質で周囲を取り囲んだ分析対象部位に一次イオンを照射して元素分析を行うことを特徴とする二次イオン質量分析方法。
IPC (3件):
G01N23/225
, G01N1/36
, G01N27/62
FI (3件):
G01N23/225
, G01N27/62 H
, G01N1/28 R
Fターム (18件):
2G001AA05
, 2G001BA06
, 2G001CA05
, 2G001GA08
, 2G001KA01
, 2G001LA11
, 2G001MA10
, 2G001NA04
, 2G001NA13
, 2G001NA17
, 2G001RA10
, 2G001RA20
, 2G001SA10
, 2G052AD32
, 2G052AD55
, 2G052FA02
, 2G052GA18
, 2G052JA16
引用特許:
出願人引用 (2件)
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特開平1-107446号公報
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二次イオン質量分析方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-268463
出願人:富士電機株式会社
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