特許

J-GLOBAL ID：200903037013705727

化学増幅ポジ型レジスト材料

発明者： 渡辺 聡 ,  及川 勝之 ,  石原 俊信 ,  田中 啓順 ,  松田 維人 ,  河合 義夫
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-152655
公開番号（公開出願番号）：特開平7-333834
出願日： 1994年06月10日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式(1)で表わされるスルホニウム塩及び窒素含有化合物を含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。【化1】(式中、R1は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基である。また、Yはトリフルオロメタンスルホネート又はp-トルエンスルホネートを示す。)【効果】 本発明のレジスト材料は、ポジ型レジスト材料として高エネルギー線、特にKrFエキシマレーザーに感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性にも優れている。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表わされるスルホニウム塩及び窒素含有化合物を含有することを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。【化1】(式中、R1は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基である。また、Yはトリフルオロメタンスルホネート又はp-トルエンスルホネートを示す。)

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-209404   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-073169   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 特開平4-080758
  
• 特開平3-148257
  
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-116722   出願人：日本合成ゴム株式会社