特許
J-GLOBAL ID：200903037056133700
CVD装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 利之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-130604
公開番号（公開出願番号）：特開平9-296270
出願日： 1996年04月30日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：
【要約】【課題】 反応室と油回転ポンプの間に高温のガス接触体を配置して、未反応の原料ガスと反応生成物ガスとを熱分解し、油回転ポンプのオイルの変質による排気速度の低下を防ぐ。【解決手段】 原料ガスは基板14の表面で熱分解して、基板14上に膜が堆積する。原料ガスが熱分解すると反応生成物ガスが反応室10内に発生する。この反応生成物ガスと未反応の原料ガスは、バルブ50と可変バルブ52を経て、油回転ポンプ54で排気される。その際、油回転ポンプ54の手前のガス分解装置58において、加熱されたガス接触体に排気ガスが触れて熱分解する。分解生成物はガス接触体の表面に堆積する。ガス分解装置58を通過して低分子量となった排気ガスは油回転ポンプ54で排気される。低分子量となった排気ガスは油回転ポンプ54のオイルを変質させることがなく、油回転ポンプ54の排気速度は低下しない。
請求項（抜粋）：
真空に排気可能な反応室内で原料ガスを化学反応させて基体上に成膜するCVD装置において、反応室と排気ポンプとをつなぐ排気管の途中に、加熱可能なガス接触体を設けたことを特徴とするCVD装置。
FI (2件)：
C23C 16/44 D
, C23C 16/44 E
