特許
J-GLOBAL ID：200903037065568566
ドット計測方法及び装置並びにプログラム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-157070
公開番号（公開出願番号）：特開2009-018580
出願日： 2008年06月16日
公開日（公表日）： 2009年01月29日
要約：
【課題】低い解像度(例えば、5μm/画素程度)の撮像装置を用いた場合でも、孤立ドットの解像と同程度の精度(例えば、1μmオーダーの精度)でドット着弾位置及びドット径(液滴体積)を同時に測定可能とするドット計測技術を提供する。【解決手段】各ノズルに対応したドット列によるラインパターンを形成する。各ラインパターンを所定の角度で斜めに横切るように撮像し、当該撮像画像から各ラインパターンを横切る1次元画素列の画像信号値の変動を表すプロファイルブラフを複数取得する。各プロファイルグラフから各ラインパターンの濃度中心に対応する極値位置と、当該ラインパターンの左右両エッジに対応する第1エッジ位置及び第2エッジ位置を算出し、最小二乗法により、ライン中心近似直線、第1エッジ近似直線、第2エッジ近似直線を得る。予め知見しておいたライン幅とドット径の相関からドット径を求める。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
複数のノズルが配列された液体吐出ヘッドの各ノズルから被吐出媒体上に液滴を吐出しつつ、前記液体吐出ヘッドと前記被吐出媒体とを相対的に移動させ、各ノズルから吐出された液滴を前記被吐出媒体上に液滴を着弾させることにより、各ノズルに対応したドット列によるラインパターンを形成するラインパターン形成工程と、
前記被吐出媒体上に形成されたラインパターンのライン方向に対して撮像装置の受光素子列を所定の角度で斜めに交差させた配置関係で前記ラインパターンを前記撮像装置により撮像することにより、当該撮像画像を表す電子画像データを構成する画素の格子方向が当該撮像画像上における前記ラインパターンのライン方向に対して斜めに交差する2次元の画素格子を持つ電子画像データを取得するパターン読取工程と、
前記電子画像データから前記ラインパターンを斜めに貫く画素の格子方向に沿う1次元画素列における画像信号値の変動を表すプロファイルグラフを、1つのラインパターンに対して複数取得するプロファイルグラフ取得工程と、
1つのラインパターンに対して複数取得された各プロファイルグラフからそれぞれ、当該ラインパターンの濃度中心に対応する極値位置と、当該ラインパターンの左右両エッジに対応する第1エッジ位置及び第2エッジ位置を算出する特徴位置算出工程と、
前記特徴位置算出工程により同じラインパターンに対して複数算出された極値位置、第1エッジ位置及び第2エッジ位置のデータについて、それぞれ最小二乗法を用いて、当該ラインパターンの濃度中心を示す極値位置に対応するライン中心近似直線と、当該ラインパターンの第1エッジ位置に対応する第1エッジ近似直線と、当該ラインパターンの第2エッジ位置に対応する第2エッジ近似直線とを算出する近似直線算出工程と、
前記近似直線算出工程で得られた各ラインパターンに対するライン中心近似直線から、隣り合うラインパターンに対応するライン中心近似直線間の垂直距離を計算し、その値からドットの着弾位置を求める着弾位置算出工程と、
前記近似直線算出工程で得られた同じラインパターンに対する第1エッジ近似直線と第2エッジ近似直線の直線間垂直距離を計算し、その値を当該ラインパターンのライン幅として求めるライン幅計算工程と、
予め所定の液と被吐出媒体の組み合わせにより、被吐出媒体上に形成されるドット径とライン幅の関係、及び吐出液滴の体積とライン幅の関係のうち少なくとも一つ関係を知得しておく相関情報知得工程と、
前記ライン幅計算工程で求められたライン幅の値と前記相関情報知得工程で知得されている関係に基づいて、ライン幅の値から、これに対応するドット径及び吐出液滴の体積のうち少なくとも一つの値を求める計測値算出工程と、
を備えたことを特徴とするドット計測方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (11件)：
2C056EB08
, 2C056EB27
, 2C056EB29
, 2C056EB36
, 2C056EB42
, 2C056EB46
, 2C056EB59
, 2C056EC25
, 2C056FA13
, 2C056HA58
, 2C056KD06
