光走査装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-279420
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084226
出願日： 2001年09月14日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：

【要約】【課題】部材の加工精度のばらつきが起因して発生するミラーの共振周波数のばらつきを調節し、ミラーの振れ角を一定にする光スキャナを有する光走査装置を提供する。【解決手段】光源28と、光スキャナ4を備える光走査装置60であって、光スキャナ4は、フレーム基板9と、固定部材5と、ミラー基板7に弾性部材3を介して支持されたミラー1とを有し、弾性部材3を捻り回転軸としてミラー1を往復振動させて光源28からの照射光を偏向する光スキャナ4であり、ミラー1と捻り回転軸としての弾性部材3とで決まる固有の共振周波数を調節する調節手段を有する光走査装置である。

請求項（抜粋）：

光源と、光スキャナを備える光走査装置であって、前記光スキャナは、フレーム基板と、固定部材と、ミラー基板に弾性部材を介して支持されたミラーとを有し、前記弾性部材を捻り回転軸として前記ミラーを往復振動させて光源からの照射光を偏向する光スキャナであり、前記ミラーと捻り回転軸としての前記弾性部材とで決まる固有の共振周波数を調節する調節手段を有することを特徴とする光走査装置。

IPC (3件)：

G02B 26/10 104 , B41J 2/44 , G02B 7/198

FI (3件)：

G02B 26/10 104 Z , B41J 3/00 D , G02B 7/18 B

Fターム (13件)：

2C362BA17 , 2C362BA18 , 2C362BA42 , 2H043CA08 , 2H043CD02 , 2H043CE00 , 2H045AB06 , 2H045AB10 , 2H045AB16 , 2H045AB38 , 2H045AB43 , 2H045AB62 , 2H045AB73

引用特許：

審査官引用 (4件)

光走査モジュール、光走査装置、画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-041130 出願人：株式会社リコー
特許第6245590号
特許第6256131号

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