特許

J-GLOBAL ID：200903037100634771

有機反射防止膜用組成物とその製造方法

発明者： 鄭 載 昌 ,  孔 根 圭 ,  鄭 ▲みん▼ 鎬 ,  洪 聖 恩 ,  李 根 守 ,  白 基 鎬
出願人/特許権者： 現代電子産業株式会社
代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-271670
公開番号（公開出願番号）：特開2001-092137
出願日： 2000年09月07日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 半導体製造工程中の超微細パターン形成工程において、フォトレジスト膜の下部膜層での反射を防ぐことができる有機反射防止膜用組成物とその製造方法及び前記組成物を用いた有機反射防止膜パターン形成方法を提供する。【解決手段】 有機反射防止膜用組成物は、架橋剤及び光吸収剤として作用する下記化学式11の構造を有する化合物を、下記化学式12の構造を有する化合物と共に使用して、製造される。(前記式において、a:bは0.1〜1.0:0.1〜1.0であり、cは1であり、R1、R11は水素又はメチル基であり、R1、R2、R4は1〜5の炭素数を有する側鎖又は主鎖置換されたアルキル基であり、R3は0〜5の炭素数を有する側鎖又は主鎖置換されたアルキル基である。)

請求項（抜粋）：

下記化学式11の構造を有する化合物。【化1】(前記式において、a:bは0.1〜1.0:0.1〜1.0であり、R ́は水素又はメチル基であり、R1、R2は1〜5の炭素数を有する側鎖又は主鎖置換されたアルキル基、R3は0〜5の炭素数を有する側鎖又は主鎖置換されたアルキル基である。)

IPC (6件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 501 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 水性樹脂分散液およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-096586   出願人：株式会社日本触媒
• ハレーション止め組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-328816   出願人：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
• アセタール化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-048024   出願人：信越化学工業株式会社