特許
J-GLOBAL ID:200903037115440051
ZnO膜及びその製造方法並びに発光素子
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中野 雅房
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-302673
公開番号(公開出願番号):特開2003-104794
出願日: 2001年09月28日
公開日(公表日): 2003年04月09日
要約:
【要約】【課題】 大型の基板にもp型のZnO膜を容易に成膜することができるZnO膜及びその製造方法などを提供することにある。【解決手段】 ZnにY2O3をドーピングしてZnメタルターゲットを作製し、このZnメタルターゲットを用いて、ArとN2の混合ガス雰囲気中で、RFマグネトロンスパッタによりサファイア基板上にZnO膜を成膜する。この結果、p型ZnO膜を得ることができた。
請求項(抜粋):
ZnOを主材料としてIII族の元素とV族の元素がドープされていることを特徴とするZnO膜。
IPC (4件):
C30B 29/16
, H01L 21/203
, H01L 21/205
, H01L 33/00
FI (4件):
C30B 29/16
, H01L 21/203 S
, H01L 21/205
, H01L 33/00 D
Fターム (42件):
4G077AA03
, 4G077BB07
, 4G077DA05
, 4G077DA11
, 4G077DA12
, 4G077DA14
, 4G077DB01
, 4G077DB08
, 4G077FD02
, 4G077SB03
, 4G077TB05
, 4G077TC16
, 4G077TC19
, 5F041CA02
, 5F041CA41
, 5F041CA49
, 5F041CA55
, 5F041CA57
, 5F041CA65
, 5F041CA66
, 5F041CA77
, 5F045AA03
, 5F045AA04
, 5F045AA05
, 5F045AB22
, 5F045AF09
, 5F045BB04
, 5F045BB09
, 5F045BB16
, 5F045CA11
, 5F103AA04
, 5F103AA05
, 5F103AA08
, 5F103BB22
, 5F103DD30
, 5F103GG01
, 5F103HH04
, 5F103JJ01
, 5F103KK10
, 5F103LL02
, 5F103RR01
, 5F103RR05
引用特許:
引用文献:
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