特許
J-GLOBAL ID:200903037115440051

ZnO膜及びその製造方法並びに発光素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中野 雅房
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-302673
公開番号(公開出願番号):特開2003-104794
出願日: 2001年09月28日
公開日(公表日): 2003年04月09日
要約:
【要約】【課題】 大型の基板にもp型のZnO膜を容易に成膜することができるZnO膜及びその製造方法などを提供することにある。【解決手段】 ZnにY2O3をドーピングしてZnメタルターゲットを作製し、このZnメタルターゲットを用いて、ArとN2の混合ガス雰囲気中で、RFマグネトロンスパッタによりサファイア基板上にZnO膜を成膜する。この結果、p型ZnO膜を得ることができた。
請求項(抜粋):
ZnOを主材料としてIII族の元素とV族の元素がドープされていることを特徴とするZnO膜。
IPC (4件):
C30B 29/16 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 33/00
FI (4件):
C30B 29/16 ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H01L 33/00 D
Fターム (42件):
4G077AA03 ,  4G077BB07 ,  4G077DA05 ,  4G077DA11 ,  4G077DA12 ,  4G077DA14 ,  4G077DB01 ,  4G077DB08 ,  4G077FD02 ,  4G077SB03 ,  4G077TB05 ,  4G077TC16 ,  4G077TC19 ,  5F041CA02 ,  5F041CA41 ,  5F041CA49 ,  5F041CA55 ,  5F041CA57 ,  5F041CA65 ,  5F041CA66 ,  5F041CA77 ,  5F045AA03 ,  5F045AA04 ,  5F045AA05 ,  5F045AB22 ,  5F045AF09 ,  5F045BB04 ,  5F045BB09 ,  5F045BB16 ,  5F045CA11 ,  5F103AA04 ,  5F103AA05 ,  5F103AA08 ,  5F103BB22 ,  5F103DD30 ,  5F103GG01 ,  5F103HH04 ,  5F103JJ01 ,  5F103KK10 ,  5F103LL02 ,  5F103RR01 ,  5F103RR05
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
引用文献:
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