光ディスク原盤の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-169313
公開番号（公開出願番号）：特開平11-353719
出願日： 1998年06月02日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】現在利用可能でかつ容易な技術を用いて微小なプリピットやグルーブを有する高密度化対応の光ディスク原盤の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】フォトレジスト層形成工程においてフォトレジスト層を所定の深さに対応する厚さより十分厚く形成し、加熱処理工程にてフォトレジスト層をその溶融点近傍の温度で加熱処理することで、凹部の表面を流動化させて細かな凹凸を除くことで荒れを取り除くと共にフォトレジスト層の厚さをピット又はグルーブの所定の深さに対応する厚さに減少させることにより光ディスク原盤を作成する。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト層をガラス基板上に形成するフォトレジスト層形成工程と、前記フォトレジスト層に対し、記録情報に応じて変調された光ビームを照射して露光することによりピット又はグルーブに対応する潜像を形成する露光工程と、前記露光されたフォトレジスト層を現像して前記ピット又はグルーブに対応する凹部を前記フォトレジスト層に形成する現像工程と、前記現像されたフォトレジスト層を加熱処理する加熱処理工程とを含む光ディスク原盤の製造方法であって、所定の深さのピット又はグルーブに対し、前記フォトレジスト層形成工程において前記フォトレジスト層を前記所定の深さに対応する厚さより十分厚く形成し、前記加熱処理工程にて前記フォトレジスト層をその溶融点近傍の温度で加熱処理することにより前記フォトレジスト層の厚さを前記所定の深さに対応する厚さに減少させることを特徴とする光ディスク原盤の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (6件)

光ディスク基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-093389 出願人：ソニー株式会社
特開平2-010535
特開平2-010535

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