特許
J-GLOBAL ID:200903037212295279
電子ビームの形状測定に利用可能なナノワイヤ架橋デバイス
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
飯田 敏三
, 佐々木 渉
, 宮前 尚祐
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-098930
公開番号(公開出願番号):特開2008-256526
出願日: 2007年04月04日
公開日(公表日): 2008年10月23日
要約:
【課題】微細な電子ビームの形状を簡便な方法で測定することが可能なナノワイヤ架橋デバイスとその作成方法を、また、それを応用した電子ビームの形状測定方法を提供する。【解決手段】金属板を渡るようにナノワイヤ、例えばカーボンナノチューブを配置し、ナノワイヤの両端部分を金属板に固定するナノワイヤ架橋デバイスの作成方法および金属板を渡るように架設されたナノワイヤを有するナノワイヤ架橋デバイス。【選択図】図1
請求項(抜粋):
金属板を渡るように架設されたナノワイヤを有するナノワイヤ架橋デバイス。
IPC (6件):
G01T 1/29
, B82B 1/00
, B82B 3/00
, G21K 5/04
, H01L 21/027
, H01J 37/04
FI (6件):
G01T1/29 A
, B82B1/00
, B82B3/00
, G21K5/04 C
, H01L21/30 541E
, H01J37/04 A
Fターム (14件):
2G088FF10
, 2G088FF12
, 2G088GG25
, 2G088GG30
, 2G088JJ09
, 2G088JJ22
, 2G088JJ27
, 2G088JJ37
, 5C030AA04
, 5C030AB02
, 5C030AB03
, 5F056BA04
, 5F056BA05
, 5F056BB08
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
荷電粒子線測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-241909
出願人:株式会社日立製作所
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