薄膜形成装置及び薄膜形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井内龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-247821
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106259
出願日： 1993年10月04日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：

【要約】【構成】プラズマを利用して試料上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、原料ガス導入部を加熱する手段と、処理容器の内壁の一部または全部を加熱する手段とを備えていることを特徴とする薄膜形成装置。【効果】第1の導入配管13にヒータ41が取りつけられているので、ガスの凝縮物による第1の導入配管13のつまりをなくして第1の導入配管13から安定したガスの供給ができる。

請求項（抜粋）：

原料ガス導入部と、試料を載置する試料台がその内部に配設された処理容器とを備え、プラズマを利用して試料上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、原料ガス導入部を加熱する手段と、処理容器の内壁の一部または全部を加熱する手段とを備えていることを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 , C23C 16/44 , C23C 16/50 , H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-030523
特開平2-138474
特開平4-359515

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