特許
J-GLOBAL ID：200903037262166240
非晶質薄膜への凹凸部形成方法及び非晶質薄膜
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平井 安雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-276373
公開番号（公開出願番号）：特開2004-114046
出願日： 2002年09月20日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：
【課題】光誘起構造変化に伴う変形の度合が大きい非晶質薄膜を用いて極短パルスのレーザ光照射で効率よく凸部及び/又は凹部を形成できる非晶質薄膜への凹凸部形成方法、及び当該凹凸部形成方法に最適化させた非晶質薄膜を提供する。【解決手段】酸化物、カルコゲン化物又はハロゲン化物の非晶質材料に対し光活性物質をドープさせた薄膜に対し、極短パルス幅のレーザ光照射を行って被照射部位に凸部及び/又は凹部を生成させることにより、光感受性を向上させた非晶質材料中で構造変化を発現可能な状態が確実に得られることとなり、光誘起構造変化に伴う変形割合も大きくして、一回照射毎という極めて短時間で薄膜表面形状の変形をマイクロレンズとして十分利用可能な程度に大きく行わせることができ、マイクロレンズ製造を短時間に効率よく実行できる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
周期表1A〜7A、8、1B〜5B族のいずれか一又は複数の元素の酸化物、カルコゲン化物、又はハロゲン化物からなる非晶質材料に、所定の光活性物質をドープして形成される薄膜に対し、少なくともナノ秒より短いパルス幅のパルスレーザでレーザ光を照射し、前記薄膜のレーザ光照射部位に光誘起による構造変化を発現させて変形した凸部及び/又は凹部を得ることを
特徴とする非晶質薄膜への凹凸部形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B23K26/00 G
, C23C14/06 D
4E068AH00
, 4E068CA01
, 4E068CA03
, 4E068DB11
, 4K029AA09
, 4K029BA43
, 4K029BA51
, 4K029BC07
, 4K029CA05
, 4K029DC05
