特許

J-GLOBAL ID：200903037331163372

冷却装置、移動装置及び処理装置、並びにリソグラフィシステム

発明者： 蛯原 明光
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-144990
公開番号（公開出願番号）：特開2007-317828
出願日： 2006年05月25日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：

【課題】微動ステージの位置決め精度を極力低下させずに、ウエハホルダを冷却する。【解決手段】ウエハホルダWH近傍に形成された減圧空間32内を、真空ポンプを用いて減圧することにより、空間内液体保持部材38に浸透した液体(純水)を気化しやすくすることができる。これにより、空間内液体保持部材から気化熱が奪われ、冷却されるため、空間内液体保持部材38近傍に配置されたウエハホルダWHも冷却することが可能である。したがって、液体(純水)を大量に用いることなく、ウエハホルダを冷却することができるので、液体を供給するための太いチューブを微動ステージFSに接続する必要がない。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

移動体の、被処理物体が載置される載置部を冷却する冷却装置であって、 前記移動体内部の前記載置部近傍に形成された空間に設けられた、多孔質部材を含む空間内液体保持部と; 該空間内液体保持部に対して液体を供給する液体供給機構と; 前記空間に連通状態とされた、前記空間内の気圧調整に用いられる通気路と;を備える冷却装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/683

FI (4件)：

H01L21/30 503A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502H ,  H01L21/68 N

Fターム (8件)：

5F031CA02 ,  5F031HA13 ,  5F031HA38 ,  5F031PA30 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DB02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-113344   出願人：キヤノン株式会社