ケイ素含有脂環式化合物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-318752
公開番号（公開出願番号）：特開2002-128788
出願日： 2000年10月19日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：

【要約】【課題】ドライエッチング耐性、放射線に対する透明性、解像度、現像性等に優れた化学増幅型レジストに使用されるポリシロキサン系樹脂の原料等として有用な新規ケイ素含有脂環式化合物を提供する。【解決手段】ケイ素含有脂環式化合物は、ビシクロ[ 2.2.1 ]ヘプタン環または2〜4個のビシクロ[ 2.2.1 ]ヘプタン環が縮合した環に、2-ヒドロキシ-(2-トルフルオロメチル)エチル基、2-ヒドロキシ-2-メチル-(2-トリフルオロメチル)エチル基または2-ヒドロキシ-2,2-ジ(トリフルオロメチル)エチル基と、(置換)シリル基または環状ポリシロキサン基(ケイ素原子数3〜10)とが結合した構造、あるいは前記構造中の水酸基の水素原子を酸解離性有機基で置換した構造を有する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表されるケイ素含有脂環式化合物。【化1】〔一般式(I)において、各Rは相互に独立して、水素原子またはメチル基を示し、各R1 は相互に独立して、水素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基;炭素数1〜20の1価のハロゲン化炭化水素基;ハロゲン原子;または1級、2級もしくは3級のアミノ基を示し、各R2 は相互に独立して、炭素数1〜20の1価の炭化水素基;炭素数1〜20の1価のハロゲン化炭化水素基;または下記式(i)【化2】(式中、各Xは相互に独立して、水素原子;炭素数1〜20の1価の炭化水素基;炭素数1〜20の1価のハロゲン化炭化水素基;または炭素数1〜20の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルコキシル基を示し、aは1〜10の整数である。)で表される基を示し、mが0または1であるとき、2つのR2 が相互に結合して2個の酸素原子およびケイ素原子と共に環を形成してもよく、Rf は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、mは0〜3の整数であり、nは0〜3の整数であり、一般式(I)に表示したケイ素原子は、最上位にあるビシクロ[ 2.2.1 ]ヘプタン環の2-位または3-位に結合している。〕

IPC (3件)：

C07F 7/18 , C07F 7/21 , C08G 77/22

FI (3件)：

C07F 7/18 F , C07F 7/21 , C08G 77/22

Fターム (30件)：

4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VP03 , 4H049VP04 , 4H049VP05 , 4H049VQ16 , 4H049VQ21 , 4H049VQ78 , 4H049VR21 , 4H049VR22 , 4H049VR42 , 4H049VR43 , 4H049VU20 , 4H049VU36 , 4H049VW02 , 4J035BA04 , 4J035CA062 , 4J035CA08M , 4J035CA081 , 4J035CA15M , 4J035CA152 , 4J035CA16M , 4J035CA161 , 4J035CA17M , 4J035CA172 , 4J035CA192 , 4J035FB03 , 4J035FB10 , 4J035LA05 , 4J035LB16

引用文献：

審査官引用 (1件)

The Design of Resist Materials for 157nm Lithography

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