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J-GLOBAL ID：200902122327403028   整理番号：02A0616914

157nmリソグラフィー用のレジスト材料の設計

The Design of Resist Materials for 157nm Lithography.

著者 (9件)： WILLSON C G (Univ. Texas at Austin, TX) ,  TRINQUE B C (Univ. Texas at Austin, TX) ,  OSBORN B P (Univ. Texas at Austin, TX) ,  CHAMBERS C R (Univ. Texas at Austin, TX) ,  HSIEH Y-T (Univ. Texas at Austin, TX) ,  CHIBA T (Univ. Texas at Austin, TX) ,  ZIMMERMAN P (International SEMATECH, TX) ,  MILLER D (International SEMATECH, TX) ,  CONLEY W (International SEMATECH, TX)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15  号： 4  ページ： 583-590  発行年： 2002年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 157nm露光用のフォトレジストの処方に設計した幾つかの新し...

シソーラス用語： 真空紫外線 ,...
準シソーラス用語： ポジ型レジスト

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分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  脂肪族ハロゲン化合物  (CF03050P)

物質索引 (6件)： 3-(トリフルオロメチル)トリシクロ[4.2.1.0^2,5]ノナ-7-エン-3-カルボン酸tert-ブチル ,  5-[2-ヒドロキシ-3,3,3-トリフルオロ-2-(トリフルオロメチル)プロピル]ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン ,  5-(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン-5-オール ,  5-(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン-5-カルボン酸エトキシメチル ,  2-(トリフルオロメチル)アクリル酸1-(トリフルオロメチル)-2,2,2-トリフルオロ-1-[4-[1-ヒドロキシ-2,2,2-トリフルオロ-1-(トリフルオロメチル)エチル]シクロヘキサン-1-イル]エチル ,  6,6-ジフルオロ-5-(トリフルオロメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタ-2-エン-5-オール

引用文献 (9件)：

• 1) Tran, H. V.; Hung, R. J.; Chiba, T.; Yamada, S.; Mrozek, T.; Hsieh, Y.-T.; Chambers, C. R.; Osborn, B. P.; Trinque, B. C.; Pinnow, M. J.; Sanders, D. P.; Connor, E. F.; Grubbs, R. H.; Conley, W.; MacDonald, S. A.; Willson, C. G. Journal of Photopolymer Science and Technology 2001, 14, 669-674.
• 2) Kunz, R. R. B., T.M.; Hardy, D.E.; Goodman, R.B.; Downs, D.K.; Curtin, J.E. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1999, 3678,13-20.
• 3) Hung, R. J.-P.; Tran, H. V.; Trinque, B. C.; Chiba, T.; Yamada, S.; Sanders, D.; Connor, E. F.; Grubbs, R. H.; Klopp, J. M.; Frechet, J. M. J.; Thomas, B. H.; Shafer, G. J.; DesMarteau, D. D.; Conley, W.; Grant, W. C. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2001, 4345, 385-395.
• 4) Bae, Y. C.; Douki, K.; Yu, T.; Dai, J.; Schmaljohann, D.; Kang, S. H.; Kim, K. H.; Koerner, H.; Conley, W.; Miller, D.; Balasubramanian, R.; Holl, S.; Ober, C. K. Journal of Photopolymer Science and Technology 2001, 14, 613-620.
• 5) Brodsky, C.; Byers, J.; Conley, W.; Hung, R.; Yamada, S.; Patterson, K.; Somervell, M.; Trinque, B.; Tran, H. V.; Cho, S.; Chiba, T.; Lin, S.-H.; Jamieson, A.; Johnson, H.; Vander Heyden, T.; Willson, C. G. J. Vac. Sci. Technol., B 2000, 18, 3396-3401.

タイトルに関連する用語 (3件)： リソグラフィー ,  レジスト材料 ,  設計