特許

J-GLOBAL ID：200903037355910055

放射線を選択的に減衰するための材料を有するUV放射線システム

発明者： アラン・ダブリュ・キンブル ,  ジョン・ビー・エンス ,  ジェイムズ・エイ・エーベル
出願人/特許権者： ジョンソン・アンド・ジョンソン・ビジョン・ケア・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 田澤 博昭 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-211564
公開番号（公開出願番号）：特開2001-095900
出願日： 2000年07月12日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】【課題】 所望の放射線の部分を著しく減少することなく透過して標的物を照射し、不所望な放射線の部分を選択的に減衰し得る放射線処理システムを提供する。【解決手段】 本発明による高エネルギー放射線システムはUV放射線を発生し、選択的に光減衰性の材料により構成されており、当該光減衰性の材料が所望の放射線の不所望な放射線に対する比率を増大して、この光減衰性材料に照射する200nm以上で240nmまでの放射線の少なくとも30%を選択的に減衰し、かつ、この光減衰性材料に照射する240nm乃至280nmの放射線の50%以上を透過することにより標的物に対する損傷を減少する。

請求項（抜粋）：

UV放射線供給源から成る光エネルギー放射線システムにおいて、前記システムが選択的に光減衰性の材料により構成されており、当該光減衰性の材料が所望の放射線の不所望な放射線に対する比率を増大して、この光減衰性材料に照射する200nm以上で240nmまでの放射線の少なくとも30%を選択的に減衰し、かつ、この光減衰性材料に照射する240nm乃至280nmの放射線の50%以上を透過することにより標的物に対する損傷を減少するシステム。

IPC (2件)：

A61L 2/10 ,  G21K 5/00

FI (2件)：

A61L 2/10 ,  G21K 5/00 Z

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光殺菌方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-054815   出願人：食品産業電子利用技術研究組合
• 特開平4-058202