特許
J-GLOBAL ID：200903037372298118
フォトマスクとその製造方法および半導体集積回路とその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-074215
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279950
出願日： 2003年03月18日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】パターン描画、現像の際に生じるパターン形状の誤差や、エッチングの過程で生じる寸法変動を小さくしたフォトマスクを提供する。【解決手段】分割処理部24は、フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割する。第一補正量算出処理部26は、係数情報格納部23aより影響度係数情報を参照して、式(1)の係数Aを含む項を計算することで、小区画におけるローディング効果補正量を算出する。補正量算出処理部27は、算出したローディング効果補正量と、プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出する。補正処理部28は、小区画毎に算出したパターンデータ補正量を用いて、小区画毎にパターンデータを補正する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割するステップと、
前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出するステップと、
前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出するステップと、
該小区画において、算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出するステップと、
前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正するステップと、
当該補正したパターンデータが示すパターンを、透明基板上に少なくともパターン形成層とレジスト層を形成したフォトマスクブランクスに描画するステップと、
そのフォトマスクブランクスを現像するステップと、
前記フォトマスクブランクスの前記レジスト層が現像によって取り除かれた部分の前記パターン形成層をエッチングするステップと、
エッチング後のフォトマスクブランクスのレジスト層を剥膜するステップと
を有するフォトマスク製造方法を用いて製造されたフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F1/08
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F1/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502P
2H095BB01
, 2H095BB06
, 2H095BB14
, 2H095BB18
, 2H095BB36
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (1件)
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パターン形成方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-230312
出願人：株式会社東芝
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