イオンビームを用いてポリマー、金属およびセラミックスの表面を改質する装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：津国肇 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-524490
公開番号（公開出願番号）：特表2001-526323
出願日： 1998年12月04日
公開日（公表日）： 2001年12月18日
要約：

【要約】物質に照射されるイオンビーム(IB)のエネルギーが制御されるように、表面を改質する物質に電圧を供給し、印加される電圧を制御することが可能であり、真空チャンバーの、イオンビームを照射する部分の真空度を、イオンビームが発生する部分の真空度と差をつけ、そしてまた、両側に照射する処理と、連続処理に適用できる、イオンビーム(IB)を用いてポリマー、金属およびセラミックスの表面を改質する装置が開示される。

請求項（抜粋）：

チャンバー; チャンバー内を真空に保つ手段; イオンビームを発生させるためのイオンガンを有するイオン源; 表面改質する物質を、イオン源からのイオンビームによって照射する位置に置くことができる保持具;およびそれを通して物質の表面に反応ガスを供給する反応ガス供給手段を含む、イオンビームを用いて物質の表面を改質するための装置であって、保持具がチャンバーから絶縁されているとき、保持具に電圧が印加され、それによって、物質の表面に照射されるイオンビームのイオンエネルギーが制御される表面改質装置。

IPC (4件)：

C23C 14/48 , C08J 7/00 302 , C23F 4/00 , H01J 37/32

FI (4件)：

C23C 14/48 Z , C08J 7/00 302 , C23F 4/00 C , H01J 37/32

引用特許：

審査官引用 (5件)

電子ビーム励起プラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-098527 出願人：川崎重工業株式会社
特開昭61-163270
特開平1-195274

全件表示

前のページに戻る