特許
J-GLOBAL ID：200903037534215483
荷電粒子線転写用マスク及び荷電粒子線転写装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-234841
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094392
出願日： 1993年09月21日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】副視野を誤照射することなく、かつ、高い転写精度の荷電粒子線転写用マスク及びこのマスクを用いた荷電粒子線転写装置を提供する。【構成】荷電粒子線でマスク3上に設定した副視野を順次照射し、この副視野をつなげて感光基板14上に所望のパターンを形成する荷電粒子線転写装置において、荷電粒子線が副視野を照射する照射領域は、マスク3を載置するマスクステージ8の一方向の連続移動方向に長く設定している。
請求項（抜粋）：
感光部材に転写するパターンを荷電粒子線の1回の照射により転写を行う副視野に分割して構成した荷電粒子線転写用マスクにおいて、一方向に隣接する副視野の間隔を前記一方向に直交する方向に隣接する副視野の間隔よりも長く設定したことを特徴とする荷電粒子線転写用マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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