特許
J-GLOBAL ID:200903037626862248
プラズマ処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-172563
公開番号(公開出願番号):特開2004-022638
出願日: 2002年06月13日
公開日(公表日): 2004年01月22日
要約:
【課題】高周波電源からの電力を分配された各系についてそれぞれインピーダンス整合器を設けずとも、分配器による分配のみで電力損失が少なく、均一なプラズマ処理が可能になるプラズマ処理装置が望まれていた。【解決手段】複数のプラズマ発生用電極を有し、各電極における電力が同振幅かつ同位相であることを特徴とするプラズマ処理装置、特に、複数のプラズマ発生用電極を有し、高周波電源出力部を基点に各電極部ごとを見たインピーダンスの実数部および虚数部の差が10%以下であり、かつ、反射電力が進行波電力の10%以下であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置を提供する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
複数のプラズマ発生用電極を有し、各電極における電力が同振幅かつ同位相であることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件):
H01L21/31
, C23C16/509
, H05H1/46
FI (3件):
H01L21/31 C
, C23C16/509
, H05H1/46 R
Fターム (19件):
4K030AA06
, 4K030BA29
, 4K030BA44
, 4K030CA06
, 4K030FA03
, 4K030JA16
, 4K030KA14
, 4K030KA30
, 5F045AA08
, 5F045AB32
, 5F045AC08
, 5F045AC11
, 5F045AE17
, 5F045BB01
, 5F045BB10
, 5F045DQ14
, 5F045EH13
, 5F045EH19
, 5F045GB02
引用特許:
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