特許
J-GLOBAL ID:200903037659175130
レジスト組成物の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-034144
公開番号(公開出願番号):特開平10-232492
出願日: 1997年02月18日
公開日(公表日): 1998年09月02日
要約:
【要約】【課題】 ノボラック樹脂とキノンジアジド系感光剤を含有するレジスト組成物を製造するにあたり、材料の仕込み精度を向上させ、もってその組成物から得られるレジストパターンの寸法精度をも向上させる。【解決手段】 キノンジアジド系感光剤を有機溶剤の溶液の形で用意し、これをノボラック樹脂と混合することにより、レジスト組成物を製造する。この組成物は、アルカリ可溶性の低分子量フェノール系添加剤を含有することができるが、このフェノール系添加剤も有機溶剤の溶液の形で用意するのが好ましく、またノボラック樹脂も有機溶剤の溶液の形で用意するのが好ましい。
請求項(抜粋):
ノボラック樹脂およびキノンジアジド系感光剤を溶剤に溶解してなるレジスト組成物を製造する方法であって、該キノンジアジド系感光剤を有機溶剤の溶液の形で用意し、これをノボラック樹脂と混合することを特徴とする、レジスト組成物の製造方法。
IPC (5件):
G03F 7/022
, B01F 3/08
, G03F 7/004 501
, G03F 7/023 511
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F 7/022
, B01F 3/08 Z
, G03F 7/004 501
, G03F 7/023 511
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
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