特許

J-GLOBAL ID：200903037677922148

クラスタを利用した乾式洗浄装置及びその方法

発明者： 尹 徳 柱 ,  成 勉 昌 ,  鄭 光 鎬 ,  鄭 炯 鎭 ,  崔 源 國
出願人/特許権者： 株式会社 ダサン シー・アンド・アイ
代理人 (1件)： 磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-149661
公開番号（公開出願番号）：特開2001-137797
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：

【要約】【課題】 基板材料表面に損傷を与えることなく粉塵または有機物塵埃を効率的に除去することができるクラスタを利用した洗浄装置及び方法を提供する。【解決手段】 洗浄装置は、表面洗浄対象物たる基板材料42が装着されるチャンバ40と、チャンバ40内に設置され、ガスを中性のクラスタに変化させてチャンバ40内の基板材料に照射するためのノズル53とを含み、チャンバ40は、基板材料42を固定するためのチャック56と、チャック56の往復運動及び/または回転運動により基板材料42を往復運動及び/または回転運動させるための往復運動及び/または回動手段とを含む。そして、アルゴン、窒素、二酸化炭素の中の少なくとも一種のガスを砂時計状のノズル53を通過させノズル53より低圧のチャンバ40に噴射させて中性のクラスタを形成し、このように形成された中性のクラスタを基板材料表面42aに対して所定の角度で照射する。

請求項（抜粋）：

中性のクラスタを形成する段階と、前記クラスタを基板材料表面に対して所定の角度で照射する段階と、を含むことを特徴とするクラスタを利用した乾式洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 5/00 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

B08B 5/00 A ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 643 Z

Fターム (8件)：

3B116AA03 ,  3B116AB01 ,  3B116AB33 ,  3B116AB37 ,  3B116AB42 ,  3B116BB22 ,  3B116BB77 ,  3B116BB88

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 固体表面の洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-225238   出願人：エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド, インターナショナル.ビジネス.マシーンズ.コーポレイション
• エネルギーを有するクラスタ・ビームを使用して汚染表面を洗浄する方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-128704   出願人：フレイザー・サイエンティフィック・インコーポレーテッド