特許
J-GLOBAL ID：200903037683472502
収差補正光学系及び該光学系を用いた位置合わせ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-003856
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195336
出願日： 1995年01月13日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構成で、他の収差には殆ど影響を与えることなく、容易にコマ収差を補正して、高精度に位置合わせ用のマークの位置を検出する。【構成】 ウエハ3のショット領域にウエハマーク5が付設されている。広帯域の照明光L1は、ハーフミラー7、第1対物レンズ8、ミラー9を介してウエハマーク5を照明し、ウエハマーク5からの反射光は、ミラー9、第1対物レンズ8、ハーフミラー7、第2対物レンズ10、及びアフォーカル系13を介して撮像素子14の撮像面上にウエハマーク5の像を形成する。第2対物レンズ10で発生するコマ収差とアフォーカル系13で発生するコマ収差とが相殺する関係にしておき、全系のコマ収差を打ち消すようにアフォーカル系13を光軸に垂直な適当な方向に適量シフトさせる。
請求項（抜粋）：
第1面からの光を集光する対物光学系と、該対物光学系からの光を集光して第2面上に前記第1面の像を形成する集光光学系とを有する光学系において、前記対物光学系と前記第2面との間に、前記集光光学系で発生するコマ収差と相殺されるコマ収差を発生する補正光学系を配置し、前記集光光学系と前記補正光学系との少なくとも一方を偏心させることにより全系のコマ収差を減少させることを特徴とする収差補正光学系。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 515 D
