特許

J-GLOBAL ID：200903037718459075

窒化ケイ素を研磨するための組成物及び方法

発明者： チェン,チャン ,  バカッシイ,ロバート ,  カーター,フィリップ ,  ダイサード,ジョフリー
出願人/特許権者： キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  小林 良博 ,  蛯谷 厚志
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-500376
公開番号（公開出願番号）：特表2009-530811
出願日： 2007年03月06日
公開日（公表日）： 2009年08月27日
要約：

本発明の化学機械研磨用組成物は、を含み、1〜6のpHを有する。基材を研磨する本発明の方法は、上述の研磨用組成物の使用を含み、窒化ケイ素を含む基材を研磨するのに特に有用であって、(a)研磨剤、(b)マロン酸0.1mM〜10mM、(c)アミノカルボン酸0.1mM〜100mM、(d)硫酸イオン0.1mM〜100mM、及び(e)水。

請求項（抜粋）：

(a)研磨剤、 (b)マロン酸0.1mM〜10mM、 (c)アミノカルボン酸0.1mM〜100mM、 (d)硫酸イオン0.1mM〜100mM、及び (e)水、 を含む化学機械研磨用組成物であって、pHが1〜6である化学機械研磨用組成物。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14

FI (5件)：

H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550Z ,  C09K3/14 550C ,  C09K3/14 550D

Fターム (4件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (1件)

• バリヤ研磨溶液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-123109   出願人：ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズシーエムピーホウルディングスインコーポレイテッド