特許

J-GLOBAL ID：200903037831038604

ガス分離膜フィルタおよびその製造方法

発明者： 由宇 喜裕 ,  佐郷 文昭 ,  大嶋 仁英
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-363643
公開番号（公開出願番号）：特開2003-164739
出願日： 2001年11月29日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】【課題】高温においてもガス透過率の経時的変化を抑制したガス分離膜を提供する。【解決手段】多孔質支持体と、該多孔質支持体の上に設けられ、酸化珪素を主体とし、Al、Ti及びZrのうち少なくとも1種を含むガス分離膜を具備し、該ガス分離膜の赤外吸収分析において、SiO結合ピーク強度ISiOに対するOH結合ピーク強度IOHの比IOH/ISiOが0.1以下であることを特徴とし、特に、前記ガス分離膜が、Al、Ti及びZrを酸化物換算で10〜50モル%含むことが好ましい。

請求項（抜粋）：

多孔質支持体と、該多孔質支持体の上に設けられ、酸化珪素を主体とし、Al、Ti及びZrのうち少なくとも1種を含むガス分離膜とを具備し、該ガス分離膜の赤外吸収分析において、SiO結合ピーク強度ISiOに対するOH結合ピーク強度IOHの比IOH/ISiOが0.1以下であることを特徴とするガス分離膜フィルタ。

IPC (6件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/10 ,  C04B 41/85 ,  C04B 41/87 ,  C04B 41/89 ,  H01M 8/06

FI (6件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/10 ,  C04B 41/85 C ,  C04B 41/87 A ,  C04B 41/89 A ,  H01M 8/06 G

Fターム (26件)：

4D006GA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MB15 ,  4D006MB18 ,  4D006MB20 ,  4D006MC03X ,  4D006NA46 ,  4D006NA63 ,  4D006NA64 ,  4D006PB17 ,  4D006PB18 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67 ,  4D006PB68 ,  4D006PC11 ,  4D006PC41 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 水素ガス分離フィルタおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-366968   出願人：京セラ株式会社