特許

J-GLOBAL ID：200903037949321041

ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス

発明者： 遊佐 智 ,  横山 寿文 ,  角田 成夫 ,  本永 稔明 ,  木名瀬 良紀 ,  中川 博雄 ,  初田 千秋 ,  藤川 潤二 ,  大槻 雅司
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-127548
公開番号（公開出願番号）：特開2001-312043
出願日： 2000年04月27日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】 工程を複雑にせず、エッチング装置の構成も複雑にせず、ドライエッチング加工ができる構成のハーフトーン位相シフトフォトマスクを提供しようとするものである。 同時に、そのような加工を可能とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクスを提供する。【解決手段】 透明基板上にハーフトーン位相シフト層と実質的な遮光膜とが積層されているハーフトーン位相シフトフォトマスク形成用のブランクスであって、前記実質的な遮光膜が、タンタルを主成分とする1層を含む、単層または多層膜からなる。そして、上記において、ハーフトーン位相シフト層が金属シリサイドを主成分とし、酸素、窒素、フッ素の中から少なくとも一つ以上の元素を含む1層を含む、単層または多層膜からなる。

請求項（抜粋）：

透明基板上にハーフトーン位相シフト層と実質的な遮光膜とが積層されているハーフトーン位相シフトフォトマスク形成用のブランクスであって、前記実質的な遮光膜が、タンタルを主成分とする1層を含む、単層または多層膜からなることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス。

FI (2件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 G

Fターム (4件)：

2H095BA01 ,  2H095BB03 ,  2H095BC05 ,  2H095BC11

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-361548   出願人：ホーヤ株式会社
• ハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランク、ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-053115   出願人：大日本印刷株式会社
• ハーフトーン位相シフトマスク、及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-175377   出願人：ソニー株式会社