特許
J-GLOBAL ID：200903037979591540

皮膚洗浄料

発明者：
大森 隆司

大森 隆司 について

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鹿子木 宏之

鹿子木 宏之 について

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宮原 令二

宮原 令二 について

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難波 富幸

難波 富幸 について

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中根 俊彦

中根 俊彦 について


出願人/特許権者：
株式会社資生堂

株式会社資生堂 について


代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-311639
公開番号（公開出願番号）：特開2003-221310
出願日： 2002年10月25日
公開日（公表日）： 2003年08月05日
要約：
【要約】【課題】 本発明の目的は、使用性、安全性、及び化粧料除去効果に優れた効果を有する皮膚洗浄料を提供することにある。【解決手段】 下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含有することを特徴とする皮膚洗浄料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、m及びnはそれぞれ炭素数3〜4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、20〜80質量%である。オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。R1及びR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子であり、R1及びR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)
請求項（抜粋）：
下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含有することを特徴とする皮膚洗浄料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、m及びnはそれぞれ炭素数3〜4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、20〜80質量%である。オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。R1及びR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子であり、R1及びR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)
IPC (3件)：
A61K 7/02 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/50
FI (3件)：
A61K 7/02 A ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/50
Fターム (35件)：
4C083AA112 ,  4C083AB032 ,  4C083AB332 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC402 ,  4C083AC432 ,  4C083AC532 ,  4C083AC642 ,  4C083AC712 ,  4C083AC792 ,  4C083AD051 ,  4C083AD052 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD172 ,  4C083AD282 ,  4C083BB01 ,  4C083BB21 ,  4C083BB41 ,  4C083BB48 ,  4C083CC23 ,  4C083CC24 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083DD38 ,  4C083DD39 ,  4C083DD41 ,  4C083EE07 ,  4C083EE10 ,  4C083FF01
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (2件)

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