合成炉装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-218165
公開番号（公開出願番号）：特開平8-059247
出願日： 1994年08月19日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：

【要約】【構成】外部光源(1)、光学検知部(2)、ADコンバータ(3)、グラフィックメモリ(4)、コンピュータ(5)、炉コントローラ(6)を備え、合成炉(7)に設けた炉窓(8)から合成炉(7)内に存在する融体(10)に向かって外部光源(1)から光を照射して、融体表面からの光により融体の表面形状や表面温度を光学検知部(2)により測定し、得られたデータ(11)を、グラフィックメモリ(4)に送り、コンピュータ(5)を用いてリアルタイムで解析し、炉コントローラ(6)を用いて、合成炉内のヒータ(14)の温度。および、昇降モータ(12)の位置を制御する。【効果】合成炉内の熱および圧力等の雰囲気条件の時間的および空間的な微妙な変化に対して、リアルタイムで、融体位置や融体温度等を制御することが可能となり、高性能・高品質なガラス、セラミックス等の素材の製造が可能となる。

請求項（抜粋）：

外部光源とその照射部と光学検知部並びに制御指示部と合成炉制御動作部を備え、合成炉内に存在する融体に向かって外部光源からの光を照射部において照射して、融体の表面からの光を光学検知部において検知し、融体の性状をリアルタイムで解析し、合成炉尚の雰囲気条件と融体の配置位置を自動的に制御することを特徴とする合成炉装置。

IPC (4件)：

C03B 5/24 , C03B 5/08 , C30B 15/26 , G01B 11/30

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-144990
特開平4-144990
特開昭55-144497

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