特許
J-GLOBAL ID:200903038024274309

炭酸ガス吸収粒子およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-301434
公開番号(公開出願番号):特開2004-136164
出願日: 2002年10月16日
公開日(公表日): 2004年05月13日
要約:
【課題】炭酸ガス吸収時、液相を形成する吸収原料の表面付着性を抑制し、繰り返し高率で炭酸ガスを回収できる吸収粒子とその製造方法を提供する。【解決手段】炭酸ガス吸収剤、融点降下剤および粒子成長抑制剤の混合原料を造粒した後その粒子をセラミックスゾルおよびセラミックス粒子で被覆し、またはセラミックス粒子のみで被覆し、焼成して表面付着性を抑制した炭酸ガス吸収粒子を得た。【選択図】図1
請求項(抜粋):
炭酸ガス吸収剤、融点降下剤および粒子成長抑制剤の混合原料を造粒し、その粒子表面をセラミックスゾルおよびセラミックス粒子で、またはセラミックス粒子のみで被覆し、焼成して炭酸ガス吸収により生ずる表面付着性を抑制したことを特徴とする炭酸ガス吸収粒子。
IPC (6件):
B01D53/62 ,  B01J2/28 ,  B01J2/30 ,  B01J20/04 ,  B01J20/32 ,  C01B31/20
FI (6件):
B01D53/34 135Z ,  B01J2/28 ,  B01J2/30 ,  B01J20/04 C ,  B01J20/32 Z ,  C01B31/20 Z
Fターム (33件):
4D002AA09 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002CA07 ,  4D002DA01 ,  4D002DA70 ,  4D002EA08 ,  4D002FA01 ,  4D002GA01 ,  4D002GB12 ,  4G004NA03 ,  4G004PA01 ,  4G066AA20D ,  4G066AA27D ,  4G066AA30B ,  4G066AA43D ,  4G066AA72D ,  4G066AE20D ,  4G066BA09 ,  4G066BA11 ,  4G066BA20 ,  4G066BA36 ,  4G066CA35 ,  4G066DA02 ,  4G066FA11 ,  4G066FA22 ,  4G066FA28 ,  4G066FA33 ,  4G066FA34 ,  4G066GA01 ,  4G146JA02 ,  4G146JB09 ,  4G146JC05

前のページに戻る