特許
J-GLOBAL ID:200903038026649083
反射防止膜材料及びパターン形成方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小島 隆司 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-311396
公開番号(公開出願番号):特開2001-194798
出願日: 2000年10月12日
公開日(公表日): 2001年07月19日
要約:
【要約】【解決手段】 側鎖にスルホニル基を持つパーフルオロカーボンポリマーを含むことを特徴とする水溶性反射防止膜材料。【効果】 本発明の光反射防止膜材料は、微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、再現性よくレジストパターンを形成し得る。
請求項(抜粋):
側鎖にスルホニル基を持つパーフルオロカーボンポリマーを含むことを特徴とする水溶性反射防止膜材料。
IPC (4件):
G03F 7/11 501
, C08J 7/04 CER
, H01L 21/027
, C08L101:00
FI (4件):
G03F 7/11 501
, C08J 7/04 CER Z
, C08L101:00
, H01L 21/30 574
Fターム (14件):
2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025DA02
, 2H025DA03
, 2H025FA17
, 4F006AA11
, 4F006AB19
, 4F006BA14
, 4F006CA03
, 4F006DA04
, 5F046PA07
引用特許:
前のページに戻る