特許
J-GLOBAL ID：200903038076436285
成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-087215
公開番号（公開出願番号）：特開平9-256142
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：
【要約】【課題】 成膜材料に含まれている不純物が成膜層へ混入するのを抑制し、高発光効率、高輝度、長寿命、低電圧駆動を実現できる有機EL素子の成膜装置を提供すること。【解決手段】 成膜室12の側面に連通する基板導入室16を有する真空蒸着装置11の下部に、この成膜室12に連通する加熱処理室19a、19bを設け、成膜材料をこの加熱処理室19a又は19bで予め加熱して、この材料に含まれている不純物をガス化して外部へ放出処理した後、この材料を成膜室12へ移送して基板6に蒸着する。
請求項（抜粋）：
成膜材料を加熱して飛翔させる成膜領域と、この成膜領域から分離して付設された成膜材料加熱処理領域とを有し、前記成膜領域及び前記成膜材料加熱処理領域が真空状態に保持される成膜装置。
引用特許：
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